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Products產(chǎn)品中心

氨氣分析儀

簡(jiǎn)要描述:TK-1100型氨氣分析儀價(jià)格是由我公司榮譽(yù)出品,本系統(tǒng)包括預(yù)處理系統(tǒng)、氣體分析儀和數(shù)據(jù)處理與顯示三大部分。本系統(tǒng)取樣方式為在位式高溫伴熱抽取。本系統(tǒng)基本原理是基于紫外差分吸收光譜(DOAS)技術(shù)及可調(diào)諧半導(dǎo)體激光吸收光譜(TDLAS)技術(shù)

  • 產(chǎn)品型號(hào):TK-1100型
  • 廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家
  • 更新時(shí)間:2024-06-04
  • 訪(fǎng)  問(wèn)  量:4371

詳細(xì)介紹

品牌其他品牌價(jià)格區(qū)間面議
產(chǎn)地類(lèi)別國(guó)產(chǎn)

一、產(chǎn)品概述

脫硝氨逃逸一體化在線(xiàn)監(jiān)測(cè)系統(tǒng)(TK-1100型)是由我公司榮譽(yù)出品,本系統(tǒng)包括預(yù)處理系統(tǒng)、氣體分析儀和數(shù)據(jù)處理與顯示三大部分。本系統(tǒng)取樣方式為在位式高溫伴熱抽取。本系統(tǒng)基本原理是基于紫外差分吸收光譜(DOAS)技術(shù)及可調(diào)諧半導(dǎo)體激光吸收光譜(TDLAS)技術(shù);紫外差分吸收光譜技術(shù)原理為,同種氣體在不同光譜波段有不同的吸收,不同氣體在同一光譜波段的吸收疊加作用,通過(guò)對(duì)連續(xù)光譜做算法分析,可同時(shí)測(cè)量多種氣體,有效避免各組分相互干擾;激光光譜氣體分析技術(shù)已經(jīng)廣泛應(yīng)用到對(duì)于靈敏度、響應(yīng)時(shí)間、背景氣體免干擾等有較高要求的各種氣體監(jiān)測(cè)領(lǐng)域。

本公司生產(chǎn)的脫硝氨逃逸一體化在線(xiàn)監(jiān)測(cè)系統(tǒng)(TK-1100型)耐用且易于安裝,特別適用于眾多環(huán)保及工業(yè)過(guò)程氣體排放監(jiān)測(cè),包括燃煤發(fā)電廠(chǎng)、鋁廠(chǎng)、鋼鐵廠(chǎng)、冶煉廠(chǎng)、垃圾發(fā)電站、水泥廠(chǎng)和化工廠(chǎng)等。

二、氨逃逸形成及危害

2.1 氨逃逸的形成

   在大規(guī)模燃燒礦物燃料的領(lǐng)域,例如燃煤發(fā)電廠(chǎng),都安裝了前燃(pre-combustion)或后燃(post combustion)NOX 控制技術(shù)的脫硝裝置,后燃NOX 控制技術(shù)可以是選擇性催化還原法(SCR) 也可以是選擇性非催化還原法(SNCR),但是無(wú)論應(yīng)用哪種方法,基本原理都是一樣的,即都是通過(guò)往反應(yīng)器內(nèi)注入氨與氮氧化物發(fā)生反應(yīng),產(chǎn)生水和N2。注入的氨可以直接以NH3 的形式,也可以先通過(guò)尿素分解釋放得到NH3 再注入的形式,無(wú)論何種形式,控制好氨的注入總量和氨在反應(yīng)區(qū)的空間分布便可以zui大化的降低NOX 排放。

   

 2.2氨逃逸的危害

(1)逃逸掉的氨氣造成資金的浪費(fèi),環(huán)境污染;

(2)氨逃逸將腐蝕催化劑模塊,造成催化劑失活(即失效)和堵塞,大大縮短催化劑壽命;

(3)逃逸的氨氣,會(huì)與空氣中的SO3生成硫酸氨鹽(具有腐蝕性和粘結(jié)性)使位于脫銷(xiāo)下游的空預(yù)器蓄熱原件堵塞與腐蝕;

(4)過(guò)量的逃逸氨會(huì)被飛灰吸收,導(dǎo)致加氣塊(灰磚)無(wú)法銷(xiāo)售;

三、規(guī)格與技術(shù)參數(shù)

 指標(biāo)

測(cè)量范圍

0-10.0ppm,0-50.0ppm 可根據(jù)用戶(hù)需求設(shè)定

響應(yīng)時(shí)間

<20s

線(xiàn)性誤差

<1%F.S

零點(diǎn)漂移

可忽略

重復(fù)性

1%F.S

標(biāo)定

出廠(chǎng)時(shí)已標(biāo)定,無(wú)需定期標(biāo)定

輸入和輸出信號(hào)

模擬量輸出

4-20mA電流環(huán),750ΩMax,隔離

報(bào)警輸出

濃度超限、溫度異常、系統(tǒng)故障均報(bào)警

繼電器輸出

2路(可擴(kuò)展),觸點(diǎn)負(fù)載24V,2A

通訊接口

RS485,雙端隔離

工作條件

環(huán)境溫度

(-20)~50℃

保護(hù)等級(jí)

IP54

工作電壓

200V-240VAC,50Hz

電源功耗

≤3000W

預(yù)熱時(shí)間

1小時(shí)

伴熱溫度

180℃~240℃

 

采樣流量

2~20L/min(可根據(jù)用戶(hù)需求定制)

尺寸

機(jī)柜

1000×1200×600mm(默認(rèn)尺寸)

四、系統(tǒng)流路簡(jiǎn)介

    本系統(tǒng)的流路主要由測(cè)量流路、反吹流路、標(biāo)定流路及渦旋制冷流路組成,具體流路示意圖如下:

    系統(tǒng)進(jìn)入測(cè)量狀態(tài)后,電動(dòng)執(zhí)行機(jī)構(gòu)帶動(dòng)兩通球閥切換到采樣氣路,在引流泵的作用下,被測(cè)氣體經(jīng)由探頭桿、,兩通球閥、二級(jí)過(guò)濾器進(jìn)入NH3模塊,NH3模塊利用吸收技術(shù)(TDLAS)對(duì)氣體進(jìn)行分析,得到NH3的濃度(高溫?zé)釢穹ǎ瑉ui后排空。

    系統(tǒng)定時(shí)會(huì)進(jìn)入校準(zhǔn)狀態(tài)進(jìn)行自動(dòng)調(diào)零,此時(shí)兩通球閥切換到校準(zhǔn)氣路,校準(zhǔn)電磁閥打開(kāi),在引流泵的作用下,環(huán)境空氣經(jīng)過(guò)濾器、校準(zhǔn)電磁閥后進(jìn)入氣體室,對(duì)氣體室中殘留的被測(cè)氣體進(jìn)行吹掃,吹掃干凈后,對(duì)NH3進(jìn)行一次調(diào)零;系統(tǒng)定時(shí)會(huì)進(jìn)入反吹狀態(tài)對(duì)采樣探頭進(jìn)行反吹,此時(shí)兩通球閥切換到反吹氣路,反吹電磁閥打開(kāi),系統(tǒng)自動(dòng)控制反吹電磁閥開(kāi)或關(guān),實(shí)現(xiàn)對(duì)探頭過(guò)濾器的反吹。

五、氨逃逸系統(tǒng)取樣及機(jī)箱

取樣探頭

    裝置是具有電加熱伴熱功能,能自行加熱并實(shí)施溫控的采樣裝置。該裝置適用于高溫、高粉塵濃度的SCR/SNCR裝置入口和出口樣氣的連續(xù)采集。示意圖如下:

 

結(jié)構(gòu):裝置由取樣管、探頭法蘭、取樣法蘭管、濾芯、反吹氣罐、反吹電磁閥、探頭保溫罩等組成。

機(jī)箱規(guī)格:

本系統(tǒng)集成于機(jī)箱,具體尺寸如下圖:

 

 

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